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奧林巴斯顯微鏡冷凍斷裂裝置技術解析

[2012/8/8]

  奧林巴斯顯微鏡的斷裂在特殊的冷凍斷裂儀中進行。冷凍斷裂儀有多種商品出售,其復雜程度也有很大差別,但原理都是相同的,它們都是一個真空噴鍍儀和一個冷凍斷裂裝置組成的。

  奧林巴斯顯微鏡的冷凍斷裂裝置。其主要部件有兩個:刀座和樣品座,均由導熱良好的銅制成。刀座上安置一刀片,它可沿樣品座上的導軌順斜面下滑。樣品座上可安放樣品杯。當拉動塑料支撐塊時,刀座下滑,將樣品切斷。在刀座上方與前方各有一孔,供噴鉑與噴碳用。樣品座上可裝上蝕到加溫器,使樣品升溫。刀座前還有一隔熱板,以阻擋噴鍍時的熱輻射。為保證整個裝置有良好的導熱、滑動與切斷性能,每次使用前均應認真擦拭,除去上面的油污、水份和氧化層。必要時可用拋光膏,丙酮清洗表面。

  奧林巴斯顯微鏡使用時,將刀座和樣品座置入液氮中冷凍待液氯停止沸騰后,取出,并在室溫下迅速將經過冷凍的樣品連同樣品杯一‘起裝到樣品座亡,再將刀座放在樣品座導軌上方,下面墊以塑料文撐塊,插攢舶入隔熱板,然后將整個裝置再次故人液氮冷卻。待液氯沸騰停止,立即提出,放到真空明鍍儀的噴鍍臺上,技上支撐塊的拉繩,接通溫度控制器,蓋放真空罩開始抽真空。

  奧林巴斯顯微鏡真空噴銨儀內的真空度達到樣品溫度時,通過快門把手迅速拉動真空罩內的支撐塊,刀座即從樣品座的斜面上滑下,并將樣品切斷,在樣品杯內留下一個帶裂面的樣品。

  有時奧林巴斯顯微鏡需要研究腹表面的結構,這就要使樣品慢慢升溫,令冰升華,把膜內外表面暴露出來,這一過程稱為蝕到。蝕刻速度與溫度和真空度有關。具體作法是,在樣品斷裂后。在的真空度下,用蝕刻加溫器使樣品溫度慢慢升至,并在該條件下維持3一10分鐘。

  奧林巴斯顯微鏡的斷裂或蝕刻后的樣品均需噴鍍。噴鍍的目的是在暴露的樣品表面造成一個連續的,具有足夠反差并富有立體感的薄膜,印制備樣品表面的復型。

  奧林巴斯顯微鏡噴鍍分兩步進行。先在與樣品成45度的方向通過噴鉑孔噴鍍。為此,先要在的真空度下,使帶有鑰珠的碳棒預熱,再加大電流使鉑在2—3秒鐘內熔融氣化,當剛剛出現碳花時,即終止通電。第二步為噴碳,其噴鍍方向與樣品表面垂直。每次噴碳時間為1秒,總計可噴4—5次。每次間隔3—4秒。間歇噴碳的目的是防止樣品因過熱而發生蝕刻。噴碳是為了在樣品表面形成一個連續的膜。噴鉑與噴碳的方向。

  以上所述的奧林巴斯顯微鏡冷凍超薄切片制備法適用于形態,細胞化學或免疫標記研究。制備過程中樣品要通過一系列的水溶性介質,可稱為濕法。濕法會使樣品中的可溶性成份流失,因此不能用于這些成份的研究。為研究紹胞中的可擴散的,水溶性成份,應當使用于法制備超薄切片。

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